Na lithografické lince není odchylka 0,5°C během pečení fotoresistu drobná chyba. Je to ztráta výtěžnosti. Wafers neodpouštějí teplotní výkyvy a vaše...

Scéna na waferové podlaze Vakuová komora se zastavila, protože topný prvek na podporu odstraňování fotorezistu se odchýlil o 0,8 °C od nastavené...

Na výrobním patře jsou měkké a tvrdé pečení místa, kde nastavujete tepelný rozpočet, který může rozhodnout o kontrole kritických rozměrů. Posuňte...

Zima přichází a ukazatel spotřeby energie na obecní budově rychle roste. Starý nucený vzduchový systém se zapne a jen tak tam běží, vhání teplo do...

Tipový topný článek 400V, 2500W — Navržený pro stroje, které se pohybují Tento topný článek jsme vyvinuli pro stroje, které nejsou statické. Pro ty,...