In der Fertigungsstätte kann eine Abweichung von 1°C während des weichen Trocknungsprozesses dazu führen, dass ganze Chargen von Wafers unbrauchbar werden. Deshalb haben wir spezielle Infrarotheizer entwickelt, um dieses Risiko zu beseitigen. Sie ermöglichen eine präzise Temperaturregelung auf Waferebene während des Trocknens der Wafers, beim Aushärten des Fotolacks sowie beim Trocknen nach der Reinigung.
Was wirklich wichtig ist:
Die Heizelemente arbeiten im nahinfraroten Bereich und verfügen über ein angepasstes Spektrum. Dadurch wird das Zielobjekt direkt erhitzt – ohne dass es zu Kontaminationen kommt. Die Homogenität der Temperatur auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit zwischen den einzelnen Prozessschritten beträgt ±0,5°C. Die Reaktionszeit liegt unter zwei Sekunden, sodass eine stabile Kontrolle der Temperatur gewährleistet ist. Ein Reinraumstandard von Klasse 1–100 wird durch Quarz-/Keramikkomponenten, materialien ohne Ausgasungen sowie einen Aufbau, der Partikelbildung verhindert, erreicht. Diese Heizgeräte sind für einen 24/7-Betrieb konzipiert; ihre Lebensdauer liegt bei Zehntausenden von Stunden. Zudem lassen sie sich einfach austauschen, um unplanmäßige Stillstände zu vermeiden.
In der Lithografie spielen die Prozesse des weichen und harten Trocknens eine entscheidende Rolle bei der Kontrolle der genauen Abmessungen der Wafers. Unsere Heizgeräte sorgen dafür, dass die Temperatur des Fotolacks konstant bleibt – dadurch verringern sich die Schwankungen in der Linienbreite und die Qualität der Wafers verbessert sich. Beim Trocknen der Wafers sowie nach der Reinigung sorgt eine schnelle, gleichmäßige Erwärmung dafür, dass keine Streifen oder Wasserzeichen auf der Oberfläche entstehen – und das ohne Berührung der Wafers.
Bei der Verpackung sorgen diese Heizgeräte für konstante Härteprofile bei den Verpackungsmaterialien, wodurch die Prozesszeit verkürzt wird – ohne dass die Haftfestigkeit und Zuverlässigkeit beeinträchtigt werden. Zudem wird der Energieverbrauch reduziert, da die Wärme direkt in den Prozess eingesetzt wird, anstatt in die Kammermasse.
Wichtig ist außerdem, dass diese Heizgeräte genau auf Ihre Anlagen abgestimmt sind. Die Geometrie der Kammer, die Art der Befestigung sowie die Position der Sensoren spielen alle eine Rolle. Die Inbetriebnahme erfolgt schnell. Dabei ist sauerstofffreies, trockenes Luftmaterial erforderlich, damit die Temperaturen stabil bleiben. Es ist außerdem wichtig, die Spektralstrahlung an Ihre Unterlagsmaterialien anzupassen; wir liefern die notwendigen Daten, um die Emissivität und Reflexivität für jeden Prozess optimal einzustellen.