Di pabrik produksi tersebut, sebuah wafer berdiameter 300 mm berisi ribuan komponen kecil. Setiap komponen tersebut sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Di dalam unit litografi, proses pemanasan dilakukan untuk menentukan toleransi dimensi komponen-komponen tersebut. Jika sumber sinar IR tidak dapat mempertahankan konsistensi suhu, maka kontrol lebar garis pun akan terganggu, sehingga hasil produksi pun menjadi tidak konsisten.
Yang penting secara teknis:
Kami telah membuat sistem pelapisan IR yang mampu mempertahankan suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, dengan menggunakan emitor IR berfrekuensi pendek yang memiliki kontrol spektral yang ketat. Profil suhu tetap konsisten dari satu siklus produksi ke siklus produksi berikutnya. Kami juga telah memastikan bahwa tidak ada partikel apa pun yang dihasilkan di ruang bersih kelas 1–100. Sistem ini dapat digunakan dalam proses produksi yang sudah ada, dengan zona-zona isolasi berbahan kuarsa, bahan-bahan yang minim emisi gas, serta desain yang memungkinkan operasi 24/7 tanpa gangguan. Akurasi suhu saat proses pemanasan juga terkontrol dengan baik—semua data diukur dan dicatat secara akurat.
Yang perlu diperhatikan adalah adanya disiplin proses yang ketat; tidak boleh ada tebakan-tebakan sembarangan. Sistem ini membantu menjaga stabilitas suhu, sehingga dimensi-dimensi kritis tetap sesuai spesifikasi, dan margin kesalahan pun berkurang. Waktu siklus produksi pun menjadi lebih singkat, karena proses pemanasan tidak perlu menunggu hingga suhu stabil. Penggunaan energi juga berkurang, berkat efisiensi emitor yang tinggi dan proses pemanasan yang konsisten. Hasilnya? Produk yang rusak berkurang, proses perbaikan pun berkurang, dan proses produksi berjalan sesuai standar metrologi.
Selain itu, sistem ini juga membantu menjaga kejujuran proses produksi. Tidak perlu lagi mencari penyebab perubahan suhu atau mencari alasan untuk penurunan kualitas produk. Proses produksi berjalan secara konsisten, dan data hasil produksi pun tetap akurat.
Sebelum Anda menyetujui penggunaan sistem ini, pastikan Anda memahami cara pengoperasiannya. Anda membutuhkan sirkuit listrik khusus dan sistem pengeluaran udara yang sesuai standar ruang bersih. Sistem ini dapat digunakan dengan chuck wafer standar dan antarmuka SEMI. Namun, proses kalibrasi lengkap harus dilakukan menggunakan tumpukan bahan fotorezist dan prosedur pemanasan yang spesifik untuk kondisi produksi Anda. Rencanakan waktu dua hari untuk menyetel parameter sistem dan memverifikasi kinerja sistem sesuai rencana kontrol yang telah ditetapkan.