CMP後ウェーハ乾燥ヒーター

CMP後の乾燥処理は、ファブ内で生産性を低下させる要因の一つです。水滴や微細なスクラッチ、粒子の再付着といった問題は、根本的には不安定な熱条件や不均一な温度分布が原因です。CMP後のウェーハ乾燥用ヒーターは、単に温かい空気を送り出すだけでは不十分です。再現性の高いウェーハレベルでの温度制御が必要で...