極端紫外線用レジストヒーター部品

EUVリソグラフィーの工程において、レジストのベイク処理は単なる加熱工程に過ぎません。実際には、線幅の制御や不良率の管理が行われる重要な工程です。わずか数十分の1度の温度変動や、ごくわずかな粒子の存在だけで、CDの均一性が基準外になり、多くのウエハが廃棄されてしまいます。私たちは、このような変動を...