W procesie litografii wszystko zależy od precyzyjnego kontrolowania warunków termicznych. Nawet niewielka odchylenia w temperaturze mogą spowodować zmiany wymiarów elementów o kilka nanometrów. Od razu widać skutki takich odchyleń – powstawanie niepotrzebnych struktur na powierzchni płytek, co skutkuje koniecznością wyrzucenia tych płytek. Stworzyliśmy specjalne lampy podczerwone do wysuszania fotorezystu, aby zapewnić stabilność parametrów termicznych podczas całego procesu, nawet w trudnych warunkach.
Co jest istotne z punktu widzenia technicznego? Używamy emiterów podczerwieni o krótkiej długości fali, które charakteryzują się szybką reakcją. Ciepło dostaje się bezpośrednio do warstwy fotorezystu, bez uszkadzania nośnika informacji. Dzięki temu uzyskujemy jednolitość temperatury na poziomie ±0,1°C, a krzywe temperatury pozostają stabilne przez cały czas pracy urządzenia. System jest czysty – nie powstają żadne cząsteczki, co jest ważne w pomieszczeniach klasy 1–100. Urządzenie może być podłączone do standardowych interfejsów SEMI. Jego wydajność zachowuje się stabilnie przez ponad 5 000 godzin, przy spadku intensywności światła poniżej 5%.
Proces obróbki fotorezystu polega na precyzyjnym kontrolowaniu warunków termicznych. Temperatura musi szybko osiągnąć wymaganą wartość, potem pozostać stała, a następnie spaść do odpowiedniego poziomu. Nasze lampy skracają czas potrzebny do osiągnięcia odpowiedniej temperatury, dzięki czemu można uzyskać wyższą wydajność bez konieczności wykorzystywania większej ilości energii.
Ten sam profil termiczny jest stosowany przy każdej serii produkcji. Ta przewidywalność sprawia, że kontrola wymiarów elementów jest dokładna, a efektywność produkcji utrzymuje się na odpowiednim poziomie. W warunkach pracy 24/7 taka kontrola zapobiega nieplanowanym przerwom w produkcji, a konserwacja odbywa się zgodnie z planem.
Kilka rzeczy, które należy mieć na uwadze: instalacja jest prosta, ale precyzyjne ustawienie emitera względem płaszczyzny płytki oraz odległości między emiterem a podłożem muszą być zachowane w ścisłych tolerancjach. W przeciwnym razie pojawią się problemy z jednolitością parametrów. Powierzchnia lampy jest gorąca, więc konieczna jest izolacja termiczna oraz odpowiednie zabezpieczenia. Ponadto należy dostosować spektrum emisji lampy do pasma absorpcji fotorezystu – różne rodzaje fotorezystów wymagają różnych profili podczerwieni, dlatego system jest dostosowywany odpowiednio.