
Wafer İşleme İçin Neden Altın Kaplamalı Yansıtıcılar Kullanılır?
Dürüst olalım: Bir yarı iletken üretim sisteminde enerji israf etmek kötü bir tasarım anlamına gelir. Isıtıcıyı çalıştırdığınızda, bu kızılötesi enerjinin büyük bir kısmı ya geri seker ya da cihazın dışına sızar. Bu tam anlamıyla israftır. İşte bu yüzden yansıtıcı yüzeyler üzerinde altın kaplama kullanıyoruz. Böylece enerjinin sızmasını engelliyoruz.
Altının Yansıtma Özellikleri
Altın, makinenin daha şık görünmesi için kullanılmıyor; asıl amaç fiziksel özellikleridir. Altın, uzun dalga boylundaki kızılötesi radyasyonu yansıtmada son derece etkilidir. Standart alüminyum ise sıcaklık arttıkça performansı düşerken, altın aynı şekilde stabil kalır ve yansıtmaya devam eder. Bu sayede ısıtıcıdan gelen her watt enerji doğrudan wafer’a ulaşır. Böylece çok daha hassas bir ısı dağılımı elde edilir. Ayrıca enerji tam da gereken yere gittiği için hedef sıcaklığa ulaşmak için yüksek güç kullanmanıza gerek kalmaz.
Kablolar ve “Isı Birikimi” Sorunu
Bu tür enerjilerle uğraşırken kabloların da işi başarabilecek kalitede olması gerekir. Teflon ile yalıtılmış kablolar kullanılır; çünkü bunlar erimez. Lambanın yakınındaki aşırı ısıya dayanabilir ve gaz salınımı olmaz. Eğer yalıtım malzemesi bozulursa, wafer üzerinde kirler oluşur ve bu da istenmeyen bir durumdur. Ancak altın kaplamalı yansıtıcılar o kadar verimlidir ki, wafer üzerine büyük miktarda ısı yüklenir. Eğer soğutma sisteminiz bu ani sıcaklık artışına hazır değilse, çevredeki sensörler zarar görebilir.
Bakım Konusunda Dikkat Edilmesi Gerekenler
Altın, bu iş için en iyi malzemedir; ancak çok yumuşaktır. Eğer bakım ekibi temizlik sırasında aşındırıcı malzemeler kullanırsa, kaplamayı tahrip ederler. Bu da wafer üzerinde “soğuk noktalar” oluşmasına neden olur ve böylece ısı dağılımı bozulur. Aşındırıcı olmayan temizleme yöntemleri kullanılmalıdır. Bu, yansıtma özelliğini korumanın tek yoludur. Kablolar doğru şekilde yerleştirildiğinde ve kaplama sağlam kaldığında her şey yolunda gider. Isı artış süresi azalır ve wafer’in tüm yüzeyinde düzgün ve tutarlı bir ısı dağılımı elde edilir.