Heizkomponenten für Extreme UV (EUV) Resistenzmaterialien

Mon, 22 Jun 2026 19:15:57 +0800

In einer EUV-Lithografieanlage ist das Erhitzen des Fotoleiters keine einfache thermische Prozedur, die man einfach abhaken kann. Vielmehr bestimmt diese Prozedur die Genauigkeit der Linienbreite sowie das Defektprofil. Schon geringfügige Temperaturabweichungen – oder sogar eine geringe Anzahl anPartikeln – können dazu führen, dass die Homogenität der Linienbreite nicht mehr den Spezifikationen entspricht. Dadurch werden viele Wafer unbrauchbar. Wir haben die Heizelemente für den EUV-Fotoleiter so konzipiert, dass diese Unregelmäßigkeiten ausgeschlossen werden.

Was wirklich wichtig ist: Das System nutzt Infrarotstrahler mit kurzwelliger und mittelwelliger Wellenlänge, die auf die Absorption des Fotoleiters abgestimmt sind. Dadurch bleibt das Erhitzungsprofil über die gesamte Fläche des Wafer stabil. Die Temperaturhomogenität liegt bei ±0,1 °C innerhalb der aktiven Zone – dadurch wird eine wiederholbare Qualität gewährleistet. Die Komponenten bestehen aus Quarz und Halogenen, und sie arbeiten sauber – es kommt zu keiner Partikelemission in Reinräumen der Klassen 1–100. Dadurch bleibt die Leistung konstant, auch bei 24/7-Betrieb – ohne unplanmäßige Ausfälle durch Probleme mit den Heizelementen.

Extrem on Fortschrittliche Kohlefaser Infrarot-Heizgeräte

Heizkomponenten für Extreme UV (EUV) Resistenzmaterialien