Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotolacks

Thu, 25 Jun 2026 01:31:45 +0800

Auf der Lithografieebene weiß man ja, wie das funktioniert: Ein leichter oder starker Trocknungsprozess kann bereits eine Abweichung von einer halben Gradzahl verursachen – und das führt dazu, dass die kritischen Abmessungen um Nanometer verändert werden. Man sieht das sofort: Unregelmäßigkeiten im Belag der Wafer, usw. Dann hat man nur noch nutzlose Wafer vor sich. Wir haben Infrarotlampen entwickelt, die dazu dienen, das thermische Verhalten konstant zu halten – auch während des gesamten Produktionsprozesses.

Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Infrarotstrahler mit schneller Reaktionszeit sowie Quarzkörpern. Die Wärme gelangt direkt in die Schicht des Photoresists, ohne dass der Trägermaterial beschädigt wird. Dadurch wird eine Homogenität von ±0,1°C erreicht – und die Trocknungskurven bleiben innerhalb des gewünschten Bereichs. Das System bleibt sauber – es entstehen keine Partikel, was für Reinräume der Klassen 1–100 ideal ist. Zudem kann das System an Standard-SEMI-Schnittstellen angeschlossen werden. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg konstant, mit weniger als 5% Intensitätsabfall.

Fotolack on Fortschrittliche Kohlefaser Infrarot-Heizgeräte

Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotolacks