Trocknung der Lötmaske für Wafer

Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800

In der Fertigungshalle ist das Trocknen der Lötmaske keine eigenständige Schritte – es handelt sich dabei vielmehr um einen thermischen Prozess, der dazu dient, die Integrität der Strukturen auf dem Wafer nach der Lithografie beizubehalten. Wenn der Temperaturverlauf nicht genau kontrolliert wird, verschlechtern sich die Kantenqualitäten und die Notwendigkeit von Nachbearbeitungen steigt. Unser System sorgt dafür, dass die Temperatur genau dort bleibt, wo es vom Prozessplan vorgeschrieben wird – auf dem gesamten Wafer.

Wichtig ist eine präzise Kontrolle, die auch in der realen Produktion funktioniert. Unser Modul gewährleistet eine Genauigkeit von ±0,1 °C über den gesamten Wafer hinweg. Dabei werden NIR-optimierte Strahler verwendet, die eine schnelle, kontaktlose Energieübertragung ermöglichen. Die Kammer ist für Reinräume der Klassen 1 bis 100 geeignet – sie verfügt außerdem über einen laminaren Luftstrom sowie eine Null-Partikel-Generierung während des Trocknungsprozesses.

Maske on Fortschrittliche Kohlefaser Infrarot-Heizgeräte

Trocknung der Lötmaske für Wafer