Outil on Avancé carbone chauffages infrarouges

Capteur de température pour outil de wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:25:46 +0800

Arrêtez de chauffer les parois de votre appareil (et commencez plutôt à chauffer les wafer)
Il s’agit là d’une tâche qui exige une grande précision pour atteindre la température idéale des wafer en semi-conducteurs. Mais si vous utilisez des lampes infrarouges standards, c’est comme si vous luttiez contre un ennemi invincible. Ces lampes émettent de la chaleur dans toutes les directions, ce qui signifie que une grande partie de l’énergie est consacrée à réchauffer les parois intérieures de l’appareil. C’est un gaspillage d’énergie. Pire encore, cela transforme le châssis de l’appareil en un véritable radiateur, ce qui peut même causer des brûlures chez l’opérateur lors des interventions de maintenance. Ce n’est pas idéal.

Prise pour lampe infrarouge pour outil à wafer

Sun, 28 Jun 2026 01:37:56 +0800

Sur le plan de la wafer, un décalage de demi-degré pendant le processus de cuisson douce ou forte suffit pour modifier les dimensions critiques, laisser des résidus après l’etchage, et réduire le taux de production. Nous avons conçu une fiche pour les lampes infrarouges utilisées dans les outils de traitement des wafers, afin que le comportement thermique reste constant d’un cycle à l’autre.

Ce qui est important, c’est que cette fiche fonctionne en parfaite synergie avec les lampes en quartz à rayonnement infrarouge. Ces lampes transmettent la chaleur directement sur la wafer, de manière rapide et efficace. Dans toute la zone de cuisson, l’uniformité de la température reste comprise entre ±0,1 °C, ce qui permet au photorésistant de subir une température constante, sans points chauds.