Meilleure lampe infrarouge pour le photorésistant

Thu, 02 Jul 2026 03:27:42 +0800

Dans le domaine de la lithographie, on connaît bien les problèmes liés à la température d’archivage : une déviation de même que demi-degré suffit pour que le profil du photorésistant se dégrade. Le contrôle de l’épaisseur des lignes, l’adhérence du photorésistant, ainsi que la densité des défauts dépendent tous de la maîtrise précise de cette température. Nous avons conçu nos lampes infrarouges afin de garantir une stabilité thermique parfaite.

Le principe technique est simple : les rayons infrarouges à courte longueur d’onde atteignent directement la wafer, permettant ainsi une montée en température rapide et une uniformité parfaite. Nous utilisons des émetteurs halogènes en quartz, ajustés pour assurer une montée en température rapide et un état stationnaire stable. Cela permet d’obtenir une uniformité sur toute la surface de la wafer, avec une marge d’erreur de ±0,1°C. Les procédés d’archivage doux et fermes fonctionnent avec un contrôle de température fiable, ce qui permet de maintenir les dimensions critiques au niveau requis, lot après lot.

Chauffage de support pour le décapage de résine photosensible

Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800

Vous connaissez la situation sur le plan de travail des wafers : la chambre de stripping cesse de fonctionner parce que le chauffage de support a dérivé de 0,8°C par rapport au point de consigne. Des résidus de photoresist restent accrochés. Les retouches s’accumulent. Le rendement en pâtit.

Ce qui compte sous le capot

Nous avons conçu le chauffage de support pour stripping du photoresist autour d’un seul critère : un contrôle précis et reproductible de la température. L’uniformité à l’échelle du wafer est maintenue à ±0,1°C sur toute la surface du chuck, garantissant un budget thermique serré et une constance des profils de stripping entre différents lots.
L’élément utilise des lampes halogènes à ondes courtes dans un ensemble en quartz. Cela assure une réponse rapide et une émissivité stable, limitant la surchauffe lors des transitions entre cuisson et stripping.
La compatibilité salle blanche n’est pas un argument commercial. L’ensemble respecte les contraintes de classe 1–100 sans générer de particules, et la géométrie hermétique empêche les dégagements gazeux qui pourraient encrasser les optiques et contaminer le wafer.
La fiabilité s’exprime là où elle est essentielle : la disponibilité machine. Les unités fonctionnent 24/7 sans arrêt imprévu, et la puissance de sortie reste constante au-delà de 5 000 heures.

Photorésist on Avancé carbone chauffages infrarouges

Meilleure lampe infrarouge pour le photorésistant

Chauffage de support pour le décapage de résine photosensible

Ce qui compte sous le capot