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		<title>पोस्ट on उन्नत कार्बन इन्फ्रारेड हीटर</title>
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		<description>Recent content in पोस्ट on उन्नत कार्बन इन्फ्रारेड हीटर</description>
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				<title>CMP के बाद वेफरों को सुखाने हेतु हीटर</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;CMP के बाद वेफरों को सुखाने हेतु हीटर&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;CMP के बाद होने वाला सुखाने की प्रक्रिया, फैब फ्लोर पर उत्पादन दर कम करने वाले कारकों में से एक है। पानी के निशान, सूक्ष्म खरोंचें, एवं कणों का पुनः जमाव – ये सभी समस्याएँ अस्थिर तापमान एवं असमान थर्मल प्रोफाइल के कारण ही होती हैं। CMP के बाद वेफर को सुखाने हेतु उपयोग में आने वाले हीटर को केवल गर्म हवा ही प्रदान नहीं करनी चाहिए; बल्कि इसे ऐसा डिज़ाइन किया जाना चाहिए कि वेफर पर थर्मल नियंत्रण बना रहे, ताकि प्रक्रिया हमेशा निर्धारित सीमाओं के भीतर ही हो सके।&lt;/p&gt;</description>
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