Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan dapat merusak seluruh batch wafer yang ada. Kami membuat pemanas inframerah khusus untuk menghindari risiko tersebut. Pemanas ini memungkinkan kontrol suhu yang akurat pada setiap wafer, mulai dari proses pengeringan wafer, pemanasan bahan fotoresist, proses pengerasan bahan pembungkus, hingga proses pengeringan setelah pembersihan.
Yang penting adalah spesifikasi teknis pemanas tersebut
Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah dekat dengan profil spektral yang disesuaikan secara khusus, sehingga mampu menghangatkan target secara langsung—tanpa adanya kontaminasi. Keseragaman suhu di permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar sesi pemanasan berada dalam kisaran ±0,5°C. Waktu respons pemanas ini kurang dari dua detik, sehingga kontrol suhu tetap akurat. Kualitas ruang bersih kelas 1–100 dapat dicapai melalui penggunaan komponen kuarsa/keramik, bahan yang tidak mengeluarkan gas, serta desain yang mencegah masuknya partikel ke dalam sistem. Pemanas ini dirancang untuk digunakan 24/7, dengan masa pakai ratusan ribu jam, dan dilengkapi modul pengganti agar tidak terjadi downtime yang tidak terduga.
Dalam proses litografi, proses pemanasan memainkan peran penting dalam mengontrol dimensi-dimensi kritis dari wafer. Pemanas kami membantu menjaga konsistensi suhu bahan fotoresist, sehingga variasi lebar garis pada wafer berkurang dan produktivitas meningkat. Dalam proses pengeringan wafer, pemanasan yang cepat dan merata membantu menghilangkan noda atau bekas air pada permukaan wafer—tanpa perlu kontak fisik.
Dalam proses pengemasan, pemanas ini juga membantu menciptakan kondisi pengerasan yang konsisten bagi bahan-bahan pembungkus, sehingga waktu proses menjadi lebih singkat, sementara ketahanan dan keandalan produk tetap terjaga. Penggunaan energi pun berkurang, karena panas langsung digunakan untuk proses produksi, bukan untuk memanaskan seluruh ruang produksi.
Intinya, pemanas ini dirancang khusus untuk alat produksi Anda. Bentuk ruang produksi, jenis klip pengencang, dan posisi sensor semuanya penting. Proses penyetelan pemanas ini berlangsung cepat, dan diperlukan udara bersih dan kering agar parameter suhu tetap stabil. Menyesuaikan profil spektral pemanas dengan karakteristik substrat sangatlah penting; kami menyediakan data aplikasi yang diperlukan untuk menyetel emisivitas dan reflektivitas pemanas sesuai kebutuhan proses produksi.