Lampu inframerah untuk proses pengeringan photoresist

Thu, 25 Jun 2026 01:31:45 +0800

Di area litografi, Anda tahu bagaimana prosesnya berlangsung. Profil pemanasan yang tidak tepat, meskipun hanya setengah derajat saja, dapat menyebabkan perubahan dimensi kritis hingga beberapa nanometer. Hal ini akan langsung terlihat dari adanya ketidakseragaman pada permukaan wafer. Kita pun harus menghadapi masalah berupa wafer yang tidak bisa digunakan lagi. Kami menggunakan lampu inframerah untuk mengeringkan lapisan fotoresist, sehingga perilaku termalnya tetap stabil, dari shift ke shift, bahkan selama periode pemeliharaan sekalipun.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan pengeluarkan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dengan lapisan kuarsa yang responsif cepat. Panas tersebut langsung masuk ke lapisan fotoresist tanpa memanaskan bahan pembawa muatan, sehingga diperoleh keseragaman suhu pada tingkat wafer sebesar ±0,1°C. Kurva pemanasan yang digunakan juga memastikan bahwa prosesnya tetap berjalan sesuai rencana. Sistem ini juga bebas dari partikel debu, sehingga cocok digunakan di ruang kerja kelas 1–100. Selain itu, sistem ini juga kompatibel dengan antarmuka SEMI standar. Keluaran cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan intensitas kurang dari 5%.

Pemanas dukungan penghapus photoresist

Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800

Anda tahu situasi di lantai wafer: strip chamber berhenti bekerja karena pemanas pendukung menyimpang 0,8°C dari setpoint. Residu photoresist masih menempel. Pekerjaan ulang menumpuk. Yield menurun.

Apa yang penting di baliknya

Kami merancang pemanas pendukung photoresist stripping dengan fokus pada satu hal—kontrol suhu yang dapat diulang. Keseragaman tingkat wafer dipertahankan ±0,1°C di seluruh chuck, sehingga anggaran termal tetap ketat dan profil strip tidak berubah antar batch.
Elemen pemanas menggunakan halogen gelombang pendek dalam rakitan kuarsa. Ini memberikan respon cepat dan emisivitas stabil, sehingga overshoot tetap rendah saat transisi antara proses bake dan strip.
Kompatibilitas ruang bersih bukan sekadar klaim. Paket ini memenuhi batasan Kelas 1–100 tanpa menambah partikel, dan geometri tertutup mencegah keluarnya gas yang dapat menempel pada optik dan mengkontaminasi wafer.
Keandalan terlihat di titik kritis—waktu operasi. Unit berjalan 24/7 tanpa downtime tak terencana, dan output tetap stabil melebihi 5.000 jam.

Fotoresist on Canggih karbon pemanas inframerah

Lampu inframerah untuk proses pengeringan photoresist

Pemanas dukungan penghapus photoresist

Apa yang penting di baliknya