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		<title>CMP on Avanzata carbonio riscaldatori a infrarossi</title>
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		<description>Recent content in CMP on Avanzata carbonio riscaldatori a infrarossi</description>
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			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>Riscaldatore per essiccazione dei wafer postCMP</title>
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				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per essiccazione dei wafer postCMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;La fase di essiccazione dopo il processo CMP è uno dei fattori che influiscono negativamente sulla qualità dei prodotti ottenuti nel processo di produzione. Le macchie d’acqua, le microscopiche abrasioni e la ridistribuzione delle particelle sono tutti effetti legati a una termica instabile e a profili termici irregolari. Un riscaldatore per l’essiccazione delle wafer dopo il CMP non può semplicemente produrre aria calda: deve invece garantire un controllo termico preciso a livello della singola wafer, in modo che tutte le operazioni avvengano entro i limiti previsti dal processo.&lt;/p&gt;</description>
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