Rivestimento conforme per IR del wafer

Sat, 27 Jun 2026 01:36:32 +0800

Sul piano di produzione, un wafer da 300 mm contiene migliaia di componenti elettronici; ciascuno di questi è sensibile alle fluttuazioni termiche. All’interno della cella di litografia, i passaggi di cottura consentono di mantenere le tolleranze dimensionali desiderate. Se la sorgente a infrarossi non riesce a garantire uniformità, si verificano variazioni nella larghezza delle linee tracciate sul wafer, con conseguente diminuzione della resa produttiva.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Abbiamo sviluppato un sistema di rivestimento a infrarossi in grado di mantenere una temperatura costante pari a ±0,1°C su tutto il wafer, grazie all’uso di emettitori a onde corte con controllo spettrale preciso. Il profilo termico rimane costante ad ogni ciclo di produzione; inoltre, non vi è alcuna generazione di particelle nelle camere pulite di classe 1–100. Il sistema funziona bene anche all’interno di ambienti già esistenti, dove vengono utilizzate zone isolate in quarzo, materiali con basso livello di emissione di gas, e soluzioni progettate per garantire funzionamento continuo 24/7, senza interruzioni impreviste. La precisione nella temperatura di cottura del fotorestante non è solo un aspetto teorico: viene misurata, registrata e mantenuta costante.

Copertura on Avanzata carbonio riscaldatori a infrarossi

Rivestimento conforme per IR del wafer