Riscaldatore di supporto per la rimozione del fotoresist

Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800

Conosci la scena sul piano wafer: la strip chamber si ferma perché il support heater ha deviato di 0.8°C dal setpoint. Residui di photoresist permangono. Si accumulano rilavorazioni. La resa ne risente.

Cosa conta sotto la superficie

Abbiamo progettato il support heater per rimozione del photoresist intorno a un principio: controllo della temperatura ripetibile. L’uniformità a livello wafer rimane entro ±0.1°C sul chuck, così il tuo budget termico resta stretto e i profili di strip non oscillano tra un lotto e l’altro.
L’elemento utilizza alogeno a onde corte in un assemblaggio di quarzo. Questo assicura una rapida risposta e un’emissività stabile, mantenendo bassa la sovratemperatura durante la transizione tra bake e strip.
La compatibilità con cleanroom non è un claim. Il package rispetta i vincoli di Classe 1–100 senza introdurre particelle, e la geometria sigillata previene outgassing che può depositarsi sulle ottiche e contaminare il wafer.
L’affidabilità si dimostra dove conta: uptime. Le unità funzionano 24/7 senza fermate non previste, e la potenza erogata rimane costante oltre 5,000 ore.

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