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		<title>ウエハー on 先進 カーボン 赤外線ヒーター</title>
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				<title>CMP後ウェーハ乾燥ヒーター</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;CMP後ウェーハ乾燥ヒーター&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;CMP後の乾燥処理は、ファブ内で生産性を低下させる要因の一つです。水滴や微細なスクラッチ、粒子の再付着といった問題は、根本的には不安定な熱条件や不均一な温度分布が原因です。CMP後のウェーハ乾燥用ヒーターは、単に温かい空気を送り出すだけでは不十分です。再現性の高いウェーハレベルでの&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;温度制御&lt;/a&gt;が&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;必要&lt;/a&gt;であり、各工程が所定の範囲内で行われるようにしなければなりません。&lt;/p&gt;</description>
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