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		<title>와이퍼 on 첨단 탄소 적외선 히터</title>
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		<description>Recent content in 와이퍼 on 첨단 탄소 적외선 히터</description>
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				<title>웨이퍼용 솔더 마스크 건조</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ko/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;웨이퍼용 솔더 마스크 건조&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;생산 라인에서는 솔더 마스크를 건조시키는 과정이 단독으로 이루어지는 것이 아닙니다. 이는 리소그래피 공정 이후에 패턴의 형태를 그대로 유지하기 위한 중요한 단계입니다. 만약 열 처리 과정의 조건이 변하면, 패턴의 가장자리가 흐려지고 재작업이 필요해집니다. 저희는 전체 웨이퍼에 걸쳐 공정 카드에서 지정된 정확한 온도 조건을 유지할 수 있도록 이 시스템을 설계했습니다.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>웨이퍼 처리에 사용되는 적외선 램프 소켓</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ko/posts/infrared-lamp-socket-for-wafer-tool/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 01:37:57 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 처리에 사용되는 적외선 램프 소켓&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;웨이퍼 처리 과정에서, 소프트 베이크나 하드 베이크 시 약 반도의 온도 변화만 있어도 치명적인 문제가 발생할 수 있습니다. 에칭 과정 후에는 이물질이 남을 수 있으며, 생산 효율도 떨어집니다. 저희는 웨이퍼 처리 장비용 적외선 램프 소켓을 설계할 때, 반복적인 처리 과정에서도 일관된 열 관리가 이루어지도록 했습니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
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				<title>웨이퍼용 맞춤형 적외선 히터</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ko/posts/custom-infrared-heater-for-wafer/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 02:31:33 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;웨이퍼용 맞춤형 적외선 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;팹에서는 소프트 베이크 과정에서 1°C의 온도 변동만으로도 웨이퍼 전체가 망가질 수 있습니다. 이러한 위험을 줄이기 위해 저희는 특수한 적외선 히터를 개발했습니다. 이 히터들을 사용하면 웨이퍼 건조, 포토레지스트 베이킹, 패키징 과정, 그리고 클린업 후 건조 과정에서 일관된 온도 제어가 가능합니다.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>CMP 후 웨이퍼 건조 히터</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ko/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;CMP 후 웨이퍼 건조 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;CMP 이후의 건조 과정은 반도체 생산 공정에서 수율을 떨어뜨리는 주요 요인 중 하나입니다. 물자국, 미세한 스크래치, 입자의 재침착과 같은 문제들은 모두 불안정한 열 조건과 불균일한 온도 분포 때문에 발생합니다. CMP 이후의 웨이퍼 건조용 히터는 단순히 따뜻한 공기를 공급하는 것만으로는 충분하지 않습니다. 반복 가능하고 일관된 온도 제어가 필요하여, 모든 공정이 정해진 범위 내에서 진행될 수 있도록 해야 합니다.&lt;/p&gt;</description>
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