<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>EUV on Termaju karbon pemanas inframerah</title>
		<link>http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/euv/</link>
		<description>Recent content in EUV on Termaju karbon pemanas inframerah</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:15:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/euv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bahagian pemanas untuk bahan penahan sinar UV ekstrem (EUV)</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/extreme-uv-euv-resist-heater-parts/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:15:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/extreme-uv-euv-resist-heater-parts/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Bahagian pemanas untuk bahan penahan sinar UV ekstrem (EUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi EUV, proses memanaskan bahan resist bukan sekadar langkah termal yang perlu dilakukan sahaja. Ia merupakan langkah penting untuk mengawal ketebalan garisan pada permukaan wafer serta mengurangkan kecacatan yang mungkin berlaku. Sebarang perubahan suhu sebanyak beberapa persepuluh darjah, atau adanya zarah-zarah kecil dalam udara, boleh menyebabkan ketidaktepatan dalam ukuran CD, dan seterusnya menjadikan banyak wafer tidak layak digunakan. Kami telah mereka komponen pemanas untuk bahan resist EUV agar variasi suhu dapat dikurangkan sepenuhnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
