<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresis on Termaju karbon pemanas inframerah</title>
		<link>http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/fotoresis/</link>
		<description>Recent content in Fotoresis on Termaju karbon pemanas inframerah</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/fotoresis/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas sokongan penanggalan fotoresis</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/photoresist-stripping-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas sokongan penanggalan fotoresis&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Anda tahu situasi di lantai wafer: ruang strip berhenti kerana pemanas sokongan terpesong 0.8°C dari setpoint. Sisa photoresist melekat. Kerja semula bertimbun. Hasil terjejas.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;apa-yang-penting-di-bawah-permukaan&#34;&gt;Apa yang penting di bawah permukaan&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami membina pemanas sokongan pengelupasan photoresist berasaskan satu perkara—kawalan suhu yang berulang dan konsisten. Keseragaman di peringkat wafer dikekalkan ±0.1°C di seluruh chuck, supaya bajet terma anda kekal ketat dan profil pengelupasan tidak berubah antara lot.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Elemen menggunakan halogen gelombang pendek dalam susunan kuarza. Ini memberikan tindak balas pantas dan emissiviti stabil, jadi lebihan suhu rendah semasa peralihan antara fasa bakar dan luntur.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
