http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/fotoresist/ Recent content in Fotoresist on Termaju karbon pemanas inframerah Hugo ms Thu, 02 Jul 2026 03:27:42 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/ Thu, 02 Jul 2026 03:27:42 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/ <p><img src="http://carbon-ir-heater.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lampu inframerah terbaik untuk photoresist"></p> <p>Di bilik litografi ini, anda pasti tahu prinsipnya: sekiranya suhu pembakaran berbeza sebanyak setengah darjah, profil fotorezist akan terjejas. Kawalan ketebalan garis, kekuatan melekat, dan kepadatan kecacatan semuanya bergantung pada kawalan suhu yang tepat. Kami telah mencipta lampu inframerah yang memastikan suhu tetap stabil.</p> <p>Prinsip teknikalnya sangat mudah difahami. Cahaya inframerah berfrekuensi rendah akan mengenai wafer secara langsung, lalu meningkatkan suhu dengan cepat sambil mengekalkan keseragaman suhu. Kami menggunakan pemancar halogen kuarsa yang direka untuk memberikan peningkatan suhu yang cepat dan keadaan suhu yang stabil, sehingga keseragaman suhu di permukaan wafer dapat dicapai dalam lingkungan ±0.1°C. Proses pembakaran yang lembut atau keras juga dilakukan dengan kawalan suhu yang tepat, agar dimensi penting wafer tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.</p> http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/ Thu, 25 Jun 2026 01:31:45 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/ <p><img src="http://carbon-ir-heater.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lampu inframerah untuk proses pengerasan photoresist"></p> <p>Dalam proses litografi, kita tahu bagaimana keadaannya. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja pun boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dalam skala nanometer. Kesan perubahan suhu ini dapat dilihat dengan jelas—seperti adanya ketidakseragaman permukaan wafer, atau pembentukan struktur tidak diingini. Akibatnya, wafer yang dihasilkan akan rosak. Kami menggunakan lampu inframerah khusus untuk memastikan suhu tetap stabil, dari satu syif ke syif yang lain, walaupun semasa waktu pembaikan.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi tinggi yang dilengkapi dengan lapisan kuarsa yang bersifat responsif. Panas yang dihasilkan akan masuk terus ke lapisan fotoresist tanpa memanaskan bahan pembawa, sehingga memberikan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C. Sistem ini juga memastikan tiada zarah <a href="https://o-yate.com">berbahaya</a> dihasilkan, sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100. Selain itu, sistem ini boleh disambungkan ke antaramuka SEMI standard. <a href="https://o-yate.net">Prestasi</a> sistem ini tetap stabil walaupun digunakan selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan intensiti cahaya kurang dari 5%.</p>