IR on Termaju karbon pemanas inframerah

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Fri, 17 Jul 2026 01:59:15 +0800

Jangan biarkan sistem IR anda menjadi sumber masalah

Apabila anda memasukkan lampu IR ke dalam reflektor aluminium, anda bukan sahaja sedang mengarahkan cahaya, tetapi juga meletakkan arus elektrik berkuasa tinggi berdekatan dengan logam yang konduktif tersebut. Sebarang kesilapan kecil dalam proses penebatan boleh menyebabkan masalah besar – sama ada seluruh sistem pemanasan tidak berfungsi, atau lebih teruk lagi, berlaku kebocoran elektrik yang membahayakan. Kedua-duanya bukanlah cara yang baik untuk menghabiskan masa pada hari Selasa.

Mengapa kami melakukan ujian ketahanan pada setiap lampu

Kami tidak membuat spekulasi. Setiap lampu akan diuji untuk ketahanan penebatan dan rintangan isolasi sebelum ia dimasukkan ke dalam kotak penghantaran. Pada dasarnya, kami memberikan arus elektrik berkuasa tinggi kepada lampu tersebut – jauh lebih tinggi daripada arus yang digunakan dalam mesin tersebut – untuk memastikan bahawa komponen penebat dan sambungan antara kuarsa dan logam mampu menahan tekanan tersebut. Jika ada retakan kecil pada komponen penebat tersebut, ia akan terbongkar semasa ujian ini. Lebih baik kami mengesan kegagalan tersebut sekarang, daripada membiarkan anda berhadapan dengan masalah seperti litar pendek setelah anda telah meluangkan masa berjam-jam untuk menyambungkan semua komponen tersebut.

Penutup hujung seramik untuk pemancar IR

Fri, 17 Jul 2026 01:46:12 +0800

Mengelakkan Penggunaan Pemancar Inframerah di Zon Kimia
Jika anda menggunakan pemanas inframerah di kawasan pembersihan bahan kimia, anda pasti sudah mengetahui risikonya. Di sana terdapat pelarut yang mudah terbakar serta wap beracun yang berkumpul di udara. Dalam keadaan seperti ini, sambungan wayar biasa bukan sahaja merupakan kelemahan, tetapi juga boleh menyebabkan masalah besar. Satu percikan api kecil atau kebocoran pada sambungan wayar pun sudah cukup untuk mencetuskan kebakaran.

Kita mengatasi masalah ini dengan membungkus terminal elektrik menggunakan penutup seramik khas. Cara ini dapat melindungi kabel elektrik daripada bersentuhan dengan udara luar.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 16 Jul 2026 01:25:47 +0800

Menjaga wafer agar tetap bersih: Kebenaran tentang penggunaan pemanasan IR
Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa sukarnya untuk memastikan kebersihan wafer tersebut. Sebuah zarah debu yang sangat kecil atau gas yang bocor dari komponen tertentu pun boleh merosakkan keseluruhan wafer tersebut.

Dalam hal pemanasan wafer silikon, kita tidak boleh menggunakan lampu biasa. Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu IR ini. Ini merupakan satu-satunya cara untuk memastikan tiada zarah apa-apa yang jatuh ke atas wafer tersebut.

Lapisan konformal untuk wafer IR

Sat, 27 Jun 2026 01:36:32 +0800

Di bilik pengeluaran yang canggih ini, sekeping wafer berukuran 300 mm boleh menempatkan ribuan komponen kecil. Setiap komponen tersebut sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Di dalam unit litografi pula, proses pemanasan yang dilakukan akan menentukan toleransi dimensi komponen-komponen tersebut. Jika sumber cahaya inframerah tidak dapat memberikan suhu yang konsisten, maka ketepatan lebar garis akan terjejas, dan hasil pengeluaran akan menurun.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami telah membangunkan sistem pelapisan inframerah yang mampu mengekalkan suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Sistem ini menggunakan pemancar cahaya inframerah berfrekuensi rendah dengan kawalan spektrum yang tepat. Profil suhu yang dihasilkan tetap konsisten dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain. Kami juga telah mengesahkan bahawa tiada zarah debu yang terbentuk di dalam bilik bersih kelas 1–100. Sistem ini boleh digunakan bersama-sama dengan peralatan sedia ada, termasuk zon pengasingan yang diperbuat daripada kuarsa, bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang memastikan operasi berjalan tanpa gangguan sepanjang masa. Ketepatan suhu semasa proses pembakaran fotoresist juga dapat dikawal dengan baik; ia diukur, dicatat, dan disimpan sebagai data yang boleh dijadikan rujukan.

Sarung kuarza untuk lampu IR jenis fab

Wed, 24 Jun 2026 01:09:15 +0800

Di bilik pengeluaran, langkah pembakaran bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Perbezaan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran boleh menjejaskan dimensi kritikal wafer tersebut. Kegagalan lampu pula akan menyebabkan proses pengeluaran terhenti. Kami mencipta lapisan kuarsa khusus untuk memastikan operasi berjalan 24/7 tanpa sebarang gangguan.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan kuarsa berkualiti tinggi yang mampu menyerap gelombang inframerah jarak pendek dan sederhana. Dengan cara ini, cahaya daripada lampu dapat disalurkan dengan efektif ke bahan fotoresist. Reka bentuk lapisan kuarsa ini disesuaikan agar suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil. Selain itu, bahan yang digunakan juga memastikan jumlah zarah debu rendah, walaupun selepas beberapa kali proses pemanasan. Ini memungkinkan proses pembakaran yang konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.