http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/mengeringkan/ Recent content in Mengeringkan on Termaju karbon pemanas inframerah Hugo ms Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/solder-mask-drying-for-wafer/ Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/solder-mask-drying-for-wafer/ <p><img src="http://carbon-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Proses pengeringan lapisan pelindung pada wafer"></p> <p>Di fasiliti pengeluaran, proses pengeringan lapisan pelindung solder bukanlah langkah yang berdiri sendiri. Ia merupakan proses pemanasan yang penting untuk memastikan integriti corak pada wafer kekal utuh selepas proses litografi. Jika parameter pemanasan tidak <a href="https://o-yate.net">dikawal</a> dengan baik, maka garis sempadan pada wafer akan menjadi kabur, dan proses pembaikan akan menjadi lebih rumit. Sistem ini direka untuk mengekalkan suhu pada tahap yang ditetapkan dalam prosedur pengeluaran, di seluruh permukaan wafer.</p> <p>Yang penting adalah kawalan yang efektif sepanjang proses pengeluaran. Modul kami mampu mengekalkan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C, menggunakan pengeluarkan tenaga jenis NIR yang dioptimasikan untuk penyampaian tenaga secara cepat tanpa sentuhan fizikal. Bilik pengeringan ini sesuai digunakan dalam lingkungan kelas kebersihan dari Class 1 hingga Class 100, dengan aliran udara yang terkawal dan tiada penghasilan zarah semasa proses pengeringan.</p> http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP"></p> <p>Proses pengeringan selepas CMP merupakan salah satu faktor yang menyebabkan penurunan kualiti produk di kilang pembuatan cip. Kesan seperti kesan air, kerosakan mikro, dan pengumpulan zarah-zarah halus biasanya berpunca daripada masalah suhu yang tidak stabil serta corak haba yang tidak seragam. Pemanas yang digunakan untuk proses pengeringan selepas CMP perlu mampu menghasilkan suhu yang seragam pada setiap bahagian wafer, agar proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam reka bentuk pemanas ini</strong><br> Kami membina pemanas ini menggunakan unsur pemanasan yang responsif serta sensor yang sangat tepat, agar suhu pada setiap bahagian wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Algoritma kawalan pula akan menyesuaikan diri apabila terdapat perubahan beban haba – seperti pergerakan wafer, perubahan aliran gas, dan sebagainya – supaya suhu pada permukaan wafer tetap stabil. Reka bentuk pemanas ini juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih; bahan-bahan yang digunakan <a href="https://henruite.com">memenuhi</a> standard kelas 1–100, dan <a href="https://goldisgood.com">permukaannya</a> dirancang sedemikian rupa agar penghasilan zarah-zarah halus dapat dikurangkan. Kebolehulangan hasil pengeringan juga sangat tinggi, dan data dari lapangan menunjukkan tiada masa henti yang tidak dijangka.</p>