http://carbon-ir-heater.com/ms/tags/pos/ Recent content in Pos on Termaju karbon pemanas inframerah Hugo ms Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Wed, 17 Jun 2026 11:39:22 +0800 http://carbon-ir-heater.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://carbon-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP"></p> <p>Proses pengeringan selepas CMP merupakan salah satu faktor yang menyebabkan penurunan kualiti produk di kilang pembuatan cip. Kesan seperti kesan air, kerosakan mikro, dan pengumpulan zarah-zarah halus biasanya berpunca daripada masalah suhu yang tidak stabil serta corak haba yang tidak seragam. Pemanas yang digunakan untuk proses pengeringan selepas CMP perlu mampu menghasilkan suhu yang seragam pada setiap bahagian wafer, agar proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam reka bentuk pemanas ini</strong><br> Kami membina pemanas ini menggunakan unsur pemanasan yang responsif serta sensor yang sangat tepat, agar suhu pada setiap bahagian wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Algoritma kawalan pula akan menyesuaikan diri apabila terdapat perubahan beban haba – seperti pergerakan wafer, perubahan aliran gas, dan sebagainya – supaya suhu pada permukaan wafer tetap stabil. Reka bentuk pemanas ini juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih; bahan-bahan yang digunakan <a href="https://henruite.com">memenuhi</a> standard kelas 1–100, dan <a href="https://goldisgood.com">permukaannya</a> dirancang sedemikian rupa agar penghasilan zarah-zarah halus dapat dikurangkan. Kebolehulangan hasil pengeringan juga sangat tinggi, dan data dari lapangan menunjukkan tiada masa henti yang tidak dijangka.</p>