Vakum on Termaju karbon pemanas inframerah

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Fri, 17 Jul 2026 01:53:21 +0800

Menghentikan “Kesan Pengeringan” dalam Ruang Vakum

Jika anda pernah bekerja di fasiliti pengeluaran semikonduktor, anda pasti tahu betapa sukarunya situasi tersebut. Anda perlu memanaskan wafer tersebut, tetapi pada masa yang sama tidak mahu seluruh ruang vakum menjadi seperti ketuhar.

Pemanasan biasa akan menyebabkan haba tersebar ke semua arah. Dalam keadaan vakum, haba tersebut tidak mempunyai tempat untuk pergi selain ke dinding bilik vakum. Ini menyebabkan masalah besar. Permukaan peralatan menjadi sangat panas sehingga berbahaya untuk disentuh, dan komponen penyegel juga rosak akibat tekanan haba. Ia merupakan pembaziran tenaga.

Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan bersama vakum

Sun, 05 Jul 2026 05:58:10 +0800

Pemanas Inframerah yang Sesuai untuk Keadaan Vakum: Penyelesaian Sebenar untuk Proses Pengeluaran Wafer Berteknologi Tinggi
Kami menciptakan pemanas inframerah yang sesuai untuk keadaan vakum ini atas satu sebab sahaja: untuk berfungsi dengan baik dalam persekitaran yang sangat keras dalam proses pengeluaran semikonduktor berteknologi tinggi. Pemanas ini mampu menghasilkan haba yang konsisten, berkualiti tinggi, dan tepat di tempat yang diperlukan.

Kami telah menguji unit ini secara langsung berbanding dengan jenama-jenama terkemuka di pasaran, di ladang pengeluaran wafer sebenar. Angka-angka yang diperoleh membuktikan keberkesanan unit ini.