Conformale laag voor IR wafers

Sat, 27 Jun 2026 01:36:32 +0800

Op de productielijn bevindt zich een schijf van 300 mm, waarop duizenden componenten zijn geplaatst. Elke van deze componenten is gevoelig voor thermische afwijkingen. Binnenin de lithografiecel worden de benodigde temperaturen bepaald door middel van speciale verhittingstechnieken. Als de IR-bron geen constante temperatuur kan behouden, leidt dat tot afwijkingen in de afmetingen van de componenten. Hierdoor neemt de kans op fouten toe.

Wat technisch gezien belangrijk is: We hebben een systeem ontwikkeld dat ervoor zorgt dat de temperatuur op de schijf binnen een marge van ±0,1°C blijft. Dit wordt bereikt met behulp van kortegolflengte-IR-emitters die een nauwkeurige controle over de spectrale eigenschappen bieden. Het thermische profiel blijft bij elke productieronde hetzelfde. We hebben ook vastgesteld dat er geen deeltjes worden geproduceerd in schone ruimtes van klasse 1–100. Het systeem past zich gemakkelijk aan bestaande omstandigheden aan: er zijn kwartsgeïsoleerde zones, materialen met lage uitstoot van gassen, en het systeem is 24/7 betrouwbaar, zodat er geen onverwachte stilstanden optreden. De precisie van de temperatuur tijdens het verhitten van de fotoresist wordt nauwkeurig gemeten en vastgelegd.

Laag on Geavanceerde koolstof infraroodverwarmers

Conformale laag voor IR wafers