Aquecedor de suporte para remoção de fotorresiste

Sat, 06 Jun 2026 01:19:42 +0800

Você conhece a cena no piso de wafers: a câmara de stripping para porque o aquecedor de suporte desviou 0,8°C do ponto de ajuste. Resíduos de fotoresiste permanecem. Retrabalho se acumula. O rendimento sofre impacto.

O que importa por trás dos bastidores

Desenvolvemos o aquecedor de suporte para remoção de fotoresiste focando em um único aspecto — controle de temperatura repetível. A uniformidade a nível do wafer mantém-se em ±0,1°C ao longo do chuck, garantindo que seu orçamento térmico permaneça rígido e que os perfis de stripping não variem entre lotes.
O elemento utiliza halogênio de onda curta em conjunto de quartzo. Isso proporciona resposta rápida e emissividade estável, mantendo o overshoot baixo durante a transição entre o bake e o strip.
Compatibilidade com sala limpa não é uma frase de efeito. O conjunto atende às restrições de Classe 1–100 sem adicionar partículas, e a geometria vedada impede a liberação de gases que possam contaminar as ópticas e o wafer.
A confiabilidade se manifesta onde é mais importante — tempo de atividade. As unidades operam 24/7 sem paradas não planejadas, e a saída mantém-se estável por mais de 5.000 horas.

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