Revestimento conformal para IR de wafer

Sat, 27 Jun 2026 01:36:32 +0800

No chão de fábrica, uma wafer de 300 mm contém milhares de elementos, e cada um deles é sensível às variações térmicas. Dentro da célula de litografia, os procedimentos de secagem controlada definem as tolerâncias dimensionais. Se a fonte de IR não conseguir manter a uniformidade, o controle da largura das linhas se altera, o que afeta diretamente a qualidade final do produto.

O que é importante, do ponto de vista técnico: Construímos um sistema de revestimento IR para wafers que mantém uma variação térmica de ±0,1°C em toda a superfície da wafer, utilizando emissores de IR de onda curta com controle espectral preciso. O perfil térmico se repete de corrida em corrida, e verificamos que não há geração de partículas nas salas limpas de classe 1–100. O sistema integra-se perfeitamente aos sistemas existentes, com zonas isoladas por quartzo, materiais com baixa emissão de gases e confiabilidade 24/7, para evitar paradas indevidas. A precisão da temperatura de secagem do fotoreativo não é algo discutido – ela é medida, registrada e mantida sob controle.

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Revestimento conformal para IR de wafer