<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Maske on Gelişmiş karbon kızılötesi ısıtıcılar</title>
		<link>http://carbon-ir-heater.com/tr/tags/maske/</link>
		<description>Recent content in Maske on Gelişmiş karbon kızılötesi ısıtıcılar</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://carbon-ir-heater.com/tr/tags/maske/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wafer için lehim maske kurutma</title>
				<link>http://carbon-ir-heater.com/tr/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 03:25:18 +0800</pubDate>
				<guid>http://carbon-ir-heater.com/tr/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://carbon-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Wafer için lehim maske kurutma&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Üretim alanında, lehim maskelemesinin kurutulması ayrı bir adım değildir; bu işlem, litografiden sonra desenlerin bütünlüğünün korunmasını sağlayan bir mekanizmadır. Eğer ısıtma sürecindeki parametreler değişirse, kenarların netliği azalır ve yeniden işleme gerekiyor. Biz bu sistemi, tüm waferler ü&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;zerinde&lt;/a&gt;, süreç kartlarında belirtilen değerlerde ısı yönetimi sağlayacak şekilde geliştirdik.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Önemli olan, gerçek üretim koşullarında da kontrolün sağlanabilmesidir. Sistemimiz, hızlı ve temas gerektirmeyen enerji transferi için optimize edilmiş NIR cihazları kullanarak, wafer üzerinde ±0,1°C’lik bir düzgünlük sağlar. Oda, Class 1’dan Class 100’e kadar olan temiz oda standartlarına uygundur; ayrıca ısıtma sırasında hiçbir parçacık oluşmaz.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
