Trong quy trình sản xuất, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 1°C cũng có thể khiến toàn bộ lô wafer bị hỏng. Chúng tôi đã chế tạo những thiết bị sưởi ấm bằng tia hồng ngoại riêng biệt để loại bỏ rủi ro này. Những thiết bị này giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác trong suốt các bước sấy khô wafer, xử lý phim ánh sáng, đóng gói wafer và sấy khô sau quy trình vệ sinh.
Điều quan trọng nhất là gì?
Thiết bị sưởi ấm này sử dụng tia hồng ngoại gần, với bước sóng được điều chỉnh phù hợp, giúp sưởi ấm trực tiếp lên bề mặt wafer – không cần dung dịch sưởi hay nguy cơ nhiễm bẩn. Độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0,1°C, còn độ lặp lại giữa các lần sưởi ấm nằm trong khoảng ±0,5°C. Thời gian phản ứng của thiết bị dưới hai giây, vì vậy việc kiểm soát nhiệt độ có thể được thực hiện một cách chính xác. Môi trường làm việc chuẩn Class 1–100 có thể được đạt được nhờ việc sử dụng vật liệu thạch anh/cao su, vật liệu không thải khí, và thiết kế giúp giảm lượng hạt bụi. Những thiết bị này được thiết kế để hoạt động 24/7, với thời gian hoạt động lên đến hàng chục nghìn giờ; các mô-đun có thể được thay thế để giảm thời gian ngừng hoạt động không mong muốn.
Trong quy trình in ấn, việc sưởi ấm wafer đóng vai trò quan trọng trong việc kiểm soát kích thước chi tiết. Thiết bị sưởi ấm của chúng tôi giúp kiểm soát nhiệt độ của phim ánh sáng, từ đó giảm sự biến đổi kích thước các chi tiết trên wafer và nâng cao tỷ lệ thành phẩm. Trong quy trình sấy khô wafer và sau quy trình vệ sinh, việc sưởi ấm nhanh và đồng đều giúp loại bỏ các vết bẩn trên bề mặt wafer – mà không cần tiếp xúc trực tiếp.
Trong quy trình đóng gói, cùng một thiết bị này cũng giúp kiểm soát nhiệt độ một cách nhất quán, từ đó rút ngắn thời gian xử lý, đồng thời đảm bảo độ bám dính và độ tin cậy của sản phẩm. Việc sử dụng năng lượng cũng được giảm bớt, vì nhiệt lượng được truyền trực tiếp vào quy trình sản xuất, chứ không bị lãng phí vào không khí trong buồng xử lý.
Điều quan trọng là thiết bị sưởi ấm này được thiết kế riêng cho từng thiết bị sản xuất. Hình dạng buồng xử lý, kiểu kẹp wafer và vị trí đặt cảm biến đều có ảnh hưởng đến hiệu suất hoạt động của thiết bị. Việc thiết lập thiết bị diễn ra nhanh chóng, và bạn cần không khí sạch, khô để đảm bảo môi trường xử lý luôn ổn định. Việc điều chỉnh bước sóng tia hồng ngoại sao cho phù hợp với vật liệu được xử lý cũng rất quan trọng; chúng tôi cung cấp dữ liệu cần thiết để điều chỉnh độ phát xạ và độ phản xạ của thiết bị cho từng quy trình xử lý.