ファブの現場では、はんだマスクの乾燥というのは独立した工程ではありません。それは、リソグラフィー後にパターンの形状を維持するための重要なプロセスなのです。もし加熱条件が不安定になると、パターンの境界がぼやけてしまい、再加工が必要になります。私たちは、ウエハ全体にわたって、プロセスカードで指定された通りの正確な温度制御を実現するためにこのシステムを開発しました。
重要なのは、実際の生産環境下でも安定した制御ができることです。当社のモジュールは、NIR技術を活用したエミッターを使用して、±0.1℃の精度でウエハ全体の温度を制御します。また、チャンバーはクラス1からクラス100までのクリーンルーム環境に対応しており、層流動作を実現し、加熱時に粒子が発生しないようになっています。
再現性も高く、1,000枚のウエハを処理しても0.2℃未満の誤差しかありません。また、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルにも対応しているため、その後のエッチングや現像工程でも一貫した寸法制御が可能です。
このシステムが現場で効果的な理由は、プロセスを円滑に進行させるからです。24時間365日稼働しても、計画外の停止時間はほとんどありません。エミッターの寿命は5,000時間以上あり、各バッチの開始時には自動的に制御が確認されます。従来のホットプレートと比べて消費電力も少なく、歩留まりを犠牲にすることなく処理時間を短縮できます。
いくつか実用上の注意点があります。このシステムには208～240Vの専用電源と、ガス排出のための排気経路が必要です。ほとんどのプラットフォームに簡単に統合できますが、既存のオーブンには機械的な改良が必要です。まずは設備の準備をしておくことが大切です。そうすれば、プロセスもスムーズに進みます。