팹에서는 소프트 베이크 과정에서 1°C의 온도 변동만으로도 웨이퍼 전체가 망가질 수 있습니다. 이러한 위험을 줄이기 위해 저희는 특수한 적외선 히터를 개발했습니다. 이 히터들을 사용하면 웨이퍼 건조, 포토레지스트 베이킹, 패키징 과정, 그리고 클린업 후 건조 과정에서 일관된 온도 제어가 가능합니다.
핵심적인 요소들 이 히터들은 특수하게 설계된 광 스펙트럼을 가진 근적외선을 사용하여 목표물을 직접 가열합니다. 따라서 용액을 사용할 필요가 없으며 오염도도 발생하지 않습니다. 웨이퍼 표면의 온도 일관성은 ±0.1°C 내로 유지되며, 반복 작업 시에도 ±0.5°C 이내로 일관성이 보장됩니다. 반응 속도는 2초 미만이므로 정밀한 제어가 가능합니다. 세정실 등급 1–100을 달성하기 위해 석영/세라믹 재질을 사용하고, 가스가 전혀 방출되지 않도록 설계되었습니다. 또한 입자 발생을 최소화하는 구조도 갖추고 있습니다. 이 히터들은 24/7 연속 운전이 가능하며, MTBF는 수만 시간에 달합니다. 또한 예상치 못한 다운타임을 줄이기 위해 교체 가능한 모듈도 제공됩니다.
리소그래피 과정에서 소프트 베이크와 하드 베이크는 치명적인 크기 제어에 중요한 역할을 합니다. 저희의 히터들은 포토레지스트의 온도를 정확하게 제어함으로써 라인 폭의 변동을 줄이고 생산성을 높입니다. 웨이퍼 건조 및 클린업 후 건조 과정에서는 빠르고 균일한 가열을 통해 표면에 줄무늬나 자국이 생기는 것을 방지합니다. 이때 접촉이 전혀 필요하지 않습니다.
패키징 과정에서도 동일한 플랫폼을 활용하여 커버링제나 언더필재료의 경화 과정을 일관되게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 처리 시간을 단축하면서도 접착력과 신뢰성을 유지할 수 있습니다. 또한 열이 큰 챔버 전체가 아닌 직접적으로 처리 과정에 전달되기 때문에 에너지 사용도 줄어듭니다.
중요한 점은, 이 히터들은 고객의 장비에 맞게 특별히 설계된다는 것입니다. 챔버의 형태, 클램프의 구조, 센서의 위치 등 모든 요소가 중요합니다. 설치도 빠르게 이루어지며, 안정적인 작동을 위해서는 깨끗하고 건조한 공기가 필요합니다. 또한 각 처리 과정에 맞는 스펙트럼 출력을 맞추는 것이 중요합니다. 저희는 각 처리 과정에 맞는 발광도와 반사율을 조절할 수 있는 데이터를 제공합니다.