Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanggangan boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengelakkan risiko ini. Pemanas ini membolehkan kawalan suhu yang tepat pada setiap wafer, sama ada semasa proses pengeringan wafer, pemanggangan bahan fotoresist, proses penyembuhan bahan pembungkus, atau pengeringan selepas pembersihan.
Apa yang penting di sebaliknya
Pemanas ini menggunakan cahaya inframerah yang disesuaikan dengan profil spektrum tertentu, sehingga dapat memanaskan permukaan wafer secara langsung—tanpa keperluan untuk menggunakan cecair pemanas atau berlakunya pencemaran. Ketepatan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketekalan antara setiap sesi pemangganan adalah sekitar ±0.5°C. Masa tindak balas pemanas ini kurang dari dua saat, jadi kawalan suhu dapat dilakukan dengan sempurna. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai dengan menggunakan bahan kuarsa/seramik, bahan yang tidak menghasilkan gas, serta reka bentuk yang dapat mengurangkan jumlah zarah debu. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan jangka hayat yang sangat panjang, serta modul penggantian yang membolehkan penutupan masa henti yang tidak dijangka.
Dalam proses litografi, proses pemanggangan yang efektif sangat penting untuk kawalan dimensi yang tepat. Pemanas kami membantu menstabilkan suhu bahan fotoresist, sehingga mengurangkan variasi lebar garis dan meningkatkan kadar keberhasilan proses. Untuk proses pengeringan wafer dan pengeringan selepas pembersihan, pemanasan yang cepat dan seragam dapat mencegah kemunculan garis-garis atau kesan air pada permukaan wafer—tanpa perlu sentuhan fizikal.
Dalam proses pembungkusan pula, pemanas yang sama digunakan untuk memastikan proses penyembuhan bahan pembungkus berjalan dengan lancar, sekaligus memendekkan masa prosesnya sambil memastikan ketahanan dan kebolehpercayaan bahan tersebut. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana haba dialirkan terus ke permukaan wafer, bukan ke ruang besar di dalam bilik pengeluaran.
Yang penting adalah: pemanas ini disesuaikan khusus untuk alat yang digunakan. Bentuk bilik pengeluaran, cara penyambungan komponen, serta kedudukan sensor semuanya memainkan peranan penting. Proses pelancaran pemanas ini berlangsung dengan cepat, dan diperlukan udara bersih dan kering untuk memastikan kestabilan suhu. Penyesuaian profil spektrum output pemanas agar sesuai dengan bahan yang digunakan juga sangat penting; kami menyediakan data yang diperlukan untuk menyesuaikan nilai emisiviti dan reflektiviti bagi setiap proses.