Dalam proses litografi, kita tahu bagaimana keadaannya. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja pun boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dalam skala nanometer. Kesan perubahan suhu ini dapat dilihat dengan jelas—seperti adanya ketidakseragaman permukaan wafer, atau pembentukan struktur tidak diingini. Akibatnya, wafer yang dihasilkan akan rosak. Kami menggunakan lampu inframerah khusus untuk memastikan suhu tetap stabil, dari satu syif ke syif yang lain, walaupun semasa waktu pembaikan.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi tinggi yang dilengkapi dengan lapisan kuarsa yang bersifat responsif. Panas yang dihasilkan akan masuk terus ke lapisan fotoresist tanpa memanaskan bahan pembawa, sehingga memberikan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C. Sistem ini juga memastikan tiada zarah berbahaya dihasilkan, sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100. Selain itu, sistem ini boleh disambungkan ke antaramuka SEMI standard. Prestasi sistem ini tetap stabil walaupun digunakan selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan intensiti cahaya kurang dari 5%.
Proses pengolahan fotoresist memerlukan pengurusan suhu yang tepat. Suhu perlu mencapai tahap sasaran dengan cepat, kemudian kekal stabil, dan akhirnya bahan tersebut dapat dikeluarkan dalam keadaan bersih. Lampu yang digunakan dapat mengurangkan masa pemanasan dan memastikan suhu stabil dalam masa beberapa saat sahaja. Dengan cara ini, kita dapat meningkatkan kelajuan pengeluaran tanpa perlu menggunakan tenaga yang lebih banyak.
Profil suhu yang sama akan berulang setiap kali proses berlangsung. Ketepatan ini membolehkan kawalan ketepatan dimensi bahan tersebut dapat dilakukan dengan baik. Pada lini pengeluaran 7×24 jam, reka bentuk sistem ini memastikan tiada masa henti yang tidak dijangka, dan kerja-kerja penyelenggaraan dapat dilakukan mengikut jadual yang ditetapkan.
Beberapa perkara yang perlu diingat: Proses pemasangan sistem ini agak mudah, tetapi penyesuaian posisi lampu terhadap permukaan wafer serta jarak antara lampu dan substrat perlu dilakukan dengan tepat. Jika tidak, keseragaman suhu akan terjejas.
Permukaan lampu sangat panas, jadi isolasi termal dan mekanisme penguncian adalah penting. Selain itu, spektrum cahaya yang dihasilkan oleh lampu perlu disesuaikan dengan gelombang penyerapan fotoresist. Setiap jenis fotoresist memerlukan profil inframerah yang berbeza, jadi sistem ini direka khas untuk memenuhi keperluan tersebut.