На производственной линии на кристалле диаметром 300 мм находятся тысячи чипов; каждый из них чувствителен к термическим колебаниям. В помещении для литографии процедуры нагрева позволяют сохранять заданные размерные характеристики. Если источник инфракрасного излучения не может обеспечить однородность излучения, контроль ширины линий нарушается, что приводит к снижению качества продукции.
Что имеет значения с технической точки зрения Мы разработали систему нанесения инфракрасного покрытия на кристаллы, которая обеспечивает стабильность температуры в пределах ±0,1°C по всей поверхности кристалла. Для этого используются коротковолновые излучатели с высокой спектральной точностью. Тепловой профиль остается стабильным при повторных запусках процесса. Мы также подтвердили отсутствие любых частиц в чистых комнатах класса 1–100. Система работает в существующих условиях: с использованием кварцевых изоляционных зон, материалов с низким уровнем выбросов газов, а также обеспечивает непрерывную работу 24/7 без перерывов. Точность температуры нагрева фотополимера измеряется и фиксируется.
Важно соблюдать строгие правила процесса – без гаданий. Эта система стабилизирует тепловые параметры, что позволяет сохранять заданные размеры чипов и сокращать допуски. Время цикла сокращается, поскольку не требуется ждать, пока температурный профиль стабилизируется. Также снижается потребление энергии благодаря высокой эффективности излучателей и возможности точного контроля температуры. Результат? Меньше брака, меньше необходимости в корректировках, а производственная линия работает как по стандартам метрологии.
Кроме того, эта система обеспечивает точность измерений. Не нужно больше бороться с колебаниями температуры или объяснять сокращение длины линий производства. Процесс работает стабильно, а показатели остаются константными.
Прежде чем начать использование системы, необходимо ознакомиться с её особенностями. Понадобится специальная схема питания и система вентиляции, соответствующая стандартам чистых комнат. Система работает с стандартными креплениями для кристаллов и интерфейсами SEMI. Однако полная адаптация системы под ваши условия требует использования вашего конкретного фотополимера и параметров нагрева. Необходимо выделить два дня на настройку системы и проверку её работы в соответствии с вашим планом контроля.