Üretim alanında, lehim maskelemesinin kurutulması ayrı bir adım değildir; bu işlem, litografiden sonra desenlerin bütünlüğünün korunmasını sağlayan bir mekanizmadır. Eğer ısıtma sürecindeki parametreler değişirse, kenarların netliği azalır ve yeniden işleme gerekiyor. Biz bu sistemi, tüm waferler üzerinde, süreç kartlarında belirtilen değerlerde ısı yönetimi sağlayacak şekilde geliştirdik.
Önemli olan, gerçek üretim koşullarında da kontrolün sağlanabilmesidir. Sistemimiz, hızlı ve temas gerektirmeyen enerji transferi için optimize edilmiş NIR cihazları kullanarak, wafer üzerinde ±0,1°C’lik bir düzgünlük sağlar. Oda, Class 1’dan Class 100’e kadar olan temiz oda standartlarına uygundur; ayrıca ısıtma sırasında hiçbir parçacık oluşmaz.
Tekrarlanabilirlik açısından ise, 1.000 wafer üzerinde 0,2°C’nin altında bir sapma görülür. Ayrıca, yumuşak ve sert ısıtma prosedürleri için uygun rampalar da mevcuttur. Bu sayede, sonraki aşamalarda da tutarlı bir kontrol sağlanır.
Sistemin neden etkili olduğu şudur: Her şeyin düzenli bir şekilde işlemesini sağlar. 7/24 çalışabilir ve planlanmamış arızalar en aza indirgenir. Cihazın ömrü 5.000 saatin üzerindedir ve kontrol döngüsü her parti başında kendini doğrular. Geleneksel ısıtıcılara kıyasla enerji tüketimi daha düşüktür ve verimlilik kaybı olmadan işlem süresi kısalır.
Birkaç pratik not: Sistem için özel 208–240 V güç kaynağı ve gazın dışarı atılması için uygun bir sistem gereklidir. Çoğu üretim platformuna kolayca entegre edilebilir; ancak mekanik olarak yeniden tasarlanmadan eski fırınlara entegre edilemez. Öncelikle gerekli altyapıyı planlamak gerekir; böylece işlem sorunsuz bir şekilde yürütülebilir.