Op de lithografieafdeling weet je hoe het werkt: zelfs een kleine afwijking van een halve graad in het warmtestroomprofiel kan er toe leiden dat de cruciale dimensies enkele nanometers veranderen. Dat zie je meteen: er ontstaan oneffenheden op het oppervlak van de wafer, waardoor je uiteindelijk alleen maar afvalwafer overhoudt. We hebben infraroodlampen ontwikkeld die het thermische gedrag van de fotoresist stabiliseren, zodat deze consistent blijft, ongeacht de omstandigheden.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken infraroodemitters met een snel reagerend kwartsomhulsel. De warmte dringt recht door naar de laag fotoresist, zonder dat de draaglaag wordt verhit. Hierdoor blijft de uniformiteit op het niveau van ±0,1°C, en de warmtestroomcurve blijft stabiel. Het systeem blijft schoon – er worden geen deeltjes geproduceerd, wat ideaal is voor cleanrooms van klasse 1–100. Bovendien past het systeem zich aan aan de standaard SEMI-interfaces. De prestaties blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een intensiteitsdaling van minder dan 5%.
Het verwerken van fotoresist vereist dat het thermische budget goed wordt beheerst. De warmte moet snel worden toegepast, vervolgens stabiel blijven en uiteindelijk weer worden weggenomen. Onze lampen verminderen de tijd die nodig is om de temperatuur te bereiken tot enkele seconden, zodat je meer output hebt zonder dat je meer energie nodig hebt.
Hetzelfde thermische profiel wordt batch na batch toegepast. Deze voorspelbaarheid zorgt ervoor dat de kwaliteit van de wafer constant blijft. Op 7×24-lijnen wordt ongepland stilstand tot een minimum beperkt, zodat onderhoud op schema kan worden uitgevoerd.
Er zijn een paar dingen om rekening mee te houden: de installatie is eenvoudig, maar de uitlijning ten opzichte van het vlak van de wafer en de afstand tussen de emitter en het substraat moeten binnen strikte toleranties blijven. Anders zal de uniformiteit afnemen.
Het oppervlak van de lamp wordt erg heet, dus thermische isolatie en veiligheidsmaatregelen zijn essentieel. Ook moet het spectrum van de emitter overeenkomen met de absorptieband van de fotoresist. Verschillende soorten fotoresist vereisen verschillende infraroodprofielen; daarom passen we het systeem hierop aan.