Drogen na de CMP is één van de oorzaken van lagere opbrengsten in de productiefaciliteit. Watervlekken, micro-schade en heropstapeling van deeltjes zijn meestal het gevolg van onstabiele hitte en oneffen thermische profielen. Een droogheater voor de wafers na de CMP kan niet zomaar warme lucht leveren. Hij moet een betrouwbare thermische controle mogelijk maken, zodat de temperatuur op elk moment binnen de gewenste grenzen blijft.
Wat belangrijk is onder het oppervlak
We hebben de droogheater ontworpen met snel reagerende verwarmingselementen en zeer nauwkeurige sensoren, zodat de uniformiteit op het niveau van de wafers op ±0,1°C blijft. De besturingsalgoritmen compenseren voor veranderingen in de thermische belasting – bijvoorbeeld wanneer de wafers worden verplaatst of wanneer de gasstroom verandert – zodat de temperatuur op het hele oppervlak van de wafel constant blijft. De compatibiliteit met schone ruimtes is ook gegarandeerd: materialen en afsluitingen zijn geschikt voor klassen 1–100, en de oppervlakken zijn zo behandeld dat er zo min mogelijk deeltjes ontstaan. De herhaalbaarheid van de uitvoering blijft dag en nacht constant, en de feitelijke gegevens laten zien dat er geen ongeplande stilstanden optreden.
Waarom dit belangrijk is na de CMP
Direct na de CMP is het oppervlak van de wafel chemisch actief en mechanisch gevoelig. Door een constante temperatuur te behouden, voorkom je dat de fotoresist zachter wordt en wordt de integriteit van het patroon beschermd tijdens het drogen. Een evenwichtige thermische verdeling voorkomt ook de ontwikkeling van hete plekken die tot storingen kunnen leiden.
Het resultaat is een lagere foutdichtheid, minder gereparaties en constante cyclustijden. De energieverbruik neemt af omdat het systeem snel de gewenste temperatuur bereikt en deze vasthoudt, zonder dat er sprake is van overschrijdingen. Bovendien worden de service-intervallen langer, omdat de componenten binnen hun thermische tolerantie kunnen werken.
Wat je moet plannen
Voor de installatie moet je rekening houden met de plaatsing van de apparatuur, de gasvoorziening en de afvoer. Er is weinig tijd om de luchtcirculatie en de temperatuurregeling af te stemmen op de vereisten van de CMP-processtappen en de gebruikte chemicaliën.
Houd de sensoren en optica regelmatig gekalibreerd, zodat de uniformiteit op ±0,1°C behouden blijft. Deze procedure is de meest betrouwbare manier om de opbrengst op de lange termijn stabiel te houden.