Na área de litografia, você sabe como as coisas funcionam. Um perfil de aquecimento inadequado, mesmo que seja de meio grau, pode causar mudanças nas dimensões críticas dos materiais utilizados, em termos de nanômetros. Isso pode ser visto imediatamente: surgem problemas como formação de bolhas, etc. No final, ficamos com wafers inutilizáveis. Nós desenvolvemos lâmpadas infravermelhas para curar o fotoresist, a fim de manter um comportamento térmico estável, ciclo após ciclo, mesmo durante períodos de operação prolongada.
O que é importante, tecnicamente:
Usamos emissores de luz infravermelha de onda curta, com revestimento de quartzo que permite resposta rápida. O calor é direcionado diretamente à camada de fotoresist, sem aquecer o suporte em si. Assim, é possível obter uma uniformidade de ±0,1°C entre os diferentes wafers, além de curvas de aquecimento que permitem controle preciso do processo. O sistema permanece limpo, sem geração de partículas, o que é ideal para salas limpas de classe 1–100. Além disso, ele se conecta às interfaces padrão da SEMI. A intensidade da luz permanece constante por mais de 5.000 horas, com uma queda de intensidade inferior a 5%.
O processamento do fotoresist depende completamente do controle térmico. O aquecimento precisa ser rápido e preciso, para que o produto final tenha qualidade uniforme. Nossas lâmpadas reduzem o tempo de aquecimento e a temperatura necessária para o processo, permitindo assim maior produtividade sem a necessidade de energia excessiva.
O mesmo perfil térmico é mantido em cada lote produzido. Essa previsibilidade é essencial para manter o controle preciso das dimensões dos produtos e garantir um rendimento adequado. Em linhas de produção 7×24 horas, isso evita paradas não planejadas e mantém a manutenção dentro do cronograma estabelecido.
Algumas coisas que precisam ser levadas em consideração: a instalação é simples, mas o alinhamento com o plano do wafer e a distância entre o emissor e o suporte precisam ser mantidos dentro de tolerâncias rigorosas. Caso contrário, a uniformidade dos resultados será afetada.
A superfície da lâmpada fica muito quente, por isso o isolamento térmico e os mecanismos de segurança são essenciais. Além disso, é necessário ajustar o espectro de emissão da lâmpada de acordo com a banda de absorção do fotoresist. Cada tipo de fotoresist requer um perfil infravermelho diferente, por isso adaptamos o sistema de acordo com essas necessidades.