Dans le domaine de la lithographie, on sait bien comment les choses se passent : un léger écart dans le profil de séchage, même d’un demi-degré, peut entraîner des variations de quelques nanomètres dans les dimensions critiques des composants. On le voit immédiatement : des défauts apparaissent sur les wafers, et il devient alors impossible d’utiliser ces derniers. Nous avons donc conçu des lampes infrarouges pour assurer une cuisson homogène du produit photo-résistant, afin que les paramètres thermiques restent stables, même pendant plusieurs cycles de traitement.
Ce qui est important du point de vue technique Nous utilisons des émetteurs infrarouges à courte longueur d’onde, équipés d’enveloppes en quartz à réponse rapide. La chaleur pénètre directement dans la couche de photo-résistant, sans chauffer le support lui-même. Cela permet d’obtenir une uniformité de ±0,1°C au niveau des wafers, ainsi que des courbes de séchage stables. Le système reste propre, sans génération de particules, ce qui est idéal pour des salles propres de classe 1–100. De plus, il fonctionne avec des interfaces standard SEMI. La performance du système reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5% de baisse d’intensité.
Le traitement du produit photo-résistant repose avant tout sur le contrôle des paramètres thermiques. La cuisson doit se faire rapidement, puis se maintenir stable, avant de libérer le produit fini. Nos lampes réduisent le temps de cuisson et permettent d’atteindre une température stable en quelques secondes seulement. Ainsi, on peut augmenter le débit de production sans avoir recours à une consommation d’énergie plus élevée.
Le même profil thermique se reproduit batch après batch, lot après lot. Cette prévisibilité permet de maintenir un contrôle précis des dimensions des composants, et donc un rendement optimal. Sur des lignes de production fonctionnant 24/7, cela permet d’éviter tout arrêt imprévu, et les travaux de maintenance peuvent être effectués selon le calendrier prévu, plutôt que d’être urgents.
Quelques points importants à garder à l’esprit : l’installation est simple, mais l’alignement par rapport au plan du wafer et la distance entre l’émetteur et le substrat doivent être strictement contrôlés. Sinon, l’uniformité du traitement sera compromise. La surface de la lampe devient très chaude, donc l’isolement thermique et les dispositifs de sécurité sont indispensables. De plus, il est nécessaire d’adapter le spectre de l’émetteur à la bande d’absorption du produit photo-résistant. Chaque type de produit photo-résistant nécessite un profil infrarouge différent, c’est pourquoi nous adaptons le système en conséquence.