Litografi sürecinde işler böyle yürüyor. Yarım derece kadar bile olan bir değişiklik, kritik boyutları nanometreler bazında etkileyebilir. Bu durumu hemen fark edebilirsiniz; yüzeyde düzensizlikler oluşur, waferler işe yaramaz hale gelir. Termal davranışların tutarlı kalması için, vardiya sonrası bile değişikliklerin olmamasını sağlamak amacıyla özel kızılötesi lambalar kullanıyoruz.
Teknik açıdan önemli olanlar Hızlı tepki veren kuvars kaplamalı kısa dalga boylu kızılötesi cihazlar kullanıyoruz. Isı, taşıyıcı malzemeyi ısıtmadan doğrudan fotoresist tabakasına ulaşır; böylece ±0,1°C’lik bir eşitlik elde edilir ve işlem parametreleri sabit kalır. Sistem temiz kalır; hiçbir parçacık oluşmaz, bu da temiz oda sınıfları 1–100 için uygundur. Ayrıca sistem, standart SEMI arayüzleriyle uyumlu çalışır. Çıkış gücü 5.000 saatten fazla süre boyunca sabit kalır ve yoğunlukta %5’ten az bir düşüş olur.
Fotoresist işleminde asıl mühim olan termal kontrolü sağlamaktır. Isıtma işlemi hızlı bir şekilde gerçekleşmeli, ardından sıcaklık sabitlenmeli ve ardından yüzey temizlenmelidir. Lambalarımız, ısınma süresini ve sıcaklık stabilitesini saniyeler içinde sağlar; böylece daha yüksek enerji tüketimi olmadan daha fazla üretim yapılabilir.
Aynı termal profil, parti after parti tekrarlanır. İşte bu öngörülebilirlik sayesinde CD kontrolü sağlanır ve verimlilik istenen seviyede kalır. 7×24 saat çalışan hatlarda, planlanmayan duruşlar sıfıra indirilir ve bakım işlemleri zamanında yapılır.
Dikkat edilmesi gereken birkaç nokta var. Montaj oldukça basittir, ancak wafer düzlemiyle olan hizalanma ve emiter ile substrat arasındaki mesafenin sıkı toleranslar içinde olması gerekir. Aksi takdirde eşitlik bozulur.
Lamba yüzeyi çok sıcak olduğundan, termal izolasyon ve güvenlik önlemleri zorunludur. Ayrıca emiterin spektrumu, fotoresistin emilim bandına uygun olmalıdır; farklı fotoresistler için farklı kızılötesi profiller gereklidir, bu yüzden sistem buna göre tasarlanır.