在光刻生产过程中，你知道的，哪怕温度变化半度，都可能让关键尺寸发生纳米级的偏差。这种情况很快就会显现出来——比如出现气泡、缺陷或桥接现象，最终导致成品率为零。为了解决这个问题，我们设计了专门的红外灯，以确保温度控制的精确性，即便在特殊环境下也能保持稳定。
从技术层面来看，重要的是什么？ 我们使用的是具有快速响应特性的石英外壳的短波红外光源。热量直接作用于光阻层，而不会影响到载体材料，因此可以确保晶圆表面的温度均匀性在±0.1℃范围内。此外，这种系统还能保持清洁状态，不会产生任何颗粒物，非常适合在1-100级洁净室中使用。而且它还支持标准的SEMI接口。该系统的性能在5,000小时以上仍能保持稳定，光强下降幅度不到5%。
光阻处理的关键在于对温度的控制。加热过程必须迅速达到目标温度，然后保持稳定，最后再让温度自然下降。我们的红外灯可以在几秒钟内完成整个加热过程，从而提高生产效率，同时避免不必要的能耗。
同样的温度控制参数可以重复应用于不同的批次和批次的晶圆上。这种可预测性有助于确保关键尺寸的精确控制，从而提升产品的良率。在7×24小时不间断运行的生产线上，这种系统能够避免非计划性的停机时间，让维护工作能够按计划进行，而不必陷入紧急修复的困境。
需要注意的是，虽然安装相对简单，但必须严格控制晶圆平面与发光源之间的距离。如果这些参数不在允许范围内，那么温度均匀性就会受到影响。
由于发光源表面温度很高，因此必须采取有效的隔热措施。此外，还需要使发光源的光谱与光阻的吸收特性相匹配——不同的光阻需要不同的红外光谱，因此我们必须根据具体情况来调整系统参数。