در کارخانههای تولید، ویفرهای ۳۰۰ میلیمتری حاوی هزاران تراشه هستند؛ هر یک از این تراشهها نسبت به تغییرات دمایی حساس هستند. در داخل دستگاههای لیتوگرافی، مراحل پختن نرم و سخت، مقادیر مجاز اندازههای تراشهها را تعیین میکنند. اگر منبع مادون قرمز نتواند یکنواختی لازم را حفظ کند، کنترل عرض خطوط تغییر میکند و در نتیجه بازده تولید کاهش مییابد.
موارد مهم از نظر فنی:
ما سیستم پوششدهی مادون قرمز برای ویفرها را طراحی کردهایم؛ این سیستم، تفاوت دمایی را در سطح ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد نگه میدارد. از فرستندههای مادون قرمز با تشخیص طیفی دقیق استفاده شده است. الگوی دمایی در هر بار تولید تکرار میشود؛ همچنین، تولید هیچ ذرهای در اتاقهای پاکسازی کلاس ۱ تا ۱۰۰ مشاهده نشده است. این سیستم با سیستمهای موجود سازگار است؛ استفاده از موادی که گاز کمی تولید میکنند، و همچنین طراحی سیستم برای عملکرد ۲۴/۷، باعث کاهش توقفهای غیرمنتظره میشود. دقت دمای پختن فوتورزیست نیز قابل اندازهگیری است؛ این مقادیر ثبت و کنترل میشوند.
نکته مهم این است که برای کنترل این فرآیند، نیاز به رعایت قوانین فنی وجود دارد؛ نه حدس و گمان. این سیستم، بودجه حرارتی را پایدار نگه میدارد؛ بنابراین اندازههای حیاتی تراشهها در محدوده مجاز باقی میمانند. زمان تولید نیز بهبود مییابد؛ زیرا مرحله پختن نیازی به انتظار برای تثبیت الگوی دمایی ندارد. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا کارایی فرستندههای مادون قرمز بالا بوده و الگوی دمایی قابل تکرار است. در نتیجه، تعداد محصولات باکیفیت کمتری تولید میشود و خط تولید به خوبی کار میکند.
علاوه بر این، این سیستم باعث میشود که فرآیند تولید قابل کنترل باشد؛ دیگر نیازی به جستجوی دلایل تغییرات دمایی یا توضیحات مربوط به کوتاه شدن خط تولید نیست. اعداد مربوط به فرآیند تولید نیز پایدار خواهد بود.
قبل از شروع کار، باید از تجهیزات مورد نیاز آگاه باشید؛ شما به یک مدار تغذیه مخصوص و سیستم تهویه مناسب نیاز دارید. این سیستم با چکهای استاندارد ورودی وریفرها و رابطهای SEMI سازگار است؛ اما برای تأیید کامل، لازم است از فوتورزیست و روشهای پختن مخصوص شما نیز استفاده شود. برای تنظیم مناطق مختلف و بررسی الگوی دمایی، به یک بازه زمانی دو روزه نیاز دارید.