Mengurangi Emisi Karbon dalam Proses Pembuatan Semikonduktor dengan Lampu IR Tanpa Ozon
Proses pembuatan semikonduktor membutuhkan energi yang sangat besar serta tingkat presisi yang tinggi. Namun, sejujurnya, cara tradisional untuk mengatasi masalah terkait panas tersebut justru menciptakan masalah baru berupa emisi karbon. Kita mencoba mengatasi hal ini dengan menggunakan lampu IR tanpa ozon. Cara ini lebih efektif untuk menghindari pemborosan energi dan mengurangi limbah berbahaya yang biasanya dihasilkan dari radiasi gelombang pendek.
Masalah yang Ditimbulkan oleh Lampu IR Biasa
Lampu IR biasa mengeluarkan radiasi dalam rentang 185nm hingga 254nm. Radiasi ini akan mengubah oksigen di udara menjadi ozon (O3). Di ruang bersih, ozon merupakan kontaminan yang sangat berbahaya.
Kita mengatasi masalah ini dengan menggunakan filamen khusus atau lapisan kuarsa yang mampu menahan radiasi VUV. Dengan cara ini, kita tetap mendapatkan panas yang cukup, tetapi tanpa adanya akumulasi gas berbahaya.
Karena tidak perlu lagi menggunakan sistem ekstraksi yang membutuhkan banyak energi, hal ini tentu saja mengurangi biaya energi bagi fasilitas produksi.
Penerapan dalam Dunia Nyata
Lampu-lampu ini dirancang untuk bekerja cepat. Mereka memiliki daya yang tinggi dan waktu pengaktifan yang singkat. Tujuannya adalah untuk menghilangkan “panas yang terbuang sia-sia” saat mesin sedang dalam proses pemanasan.
Alih-alih memanaskan seluruh ruangan seperti oven raksasa, panas dialirkan langsung ke wafer. Ini merupakan cara yang lebih efisien untuk menggunakan listrik.
Selain itu, perangkat ini dirancang agar dapat digunakan sebagai pengganti perangkat yang sudah ada, tanpa perlu merobohkan semuanya. Kami juga menggunakan kuarsa yang kuat, sehingga lampu tidak mudah pecah saat suhu berubah secara drastis.
Hal-Hal yang Perlu Diperhatikan
Namun, tentu saja tidak semuanya sempurna. Ada beberapa hal yang perlu diperhatikan.
Jika kecepatan pengaktifan lampu terlalu tinggi, sumber daya listrik akan tertekan. Anda perlu memastikan bahwa panel listrik dapat menangani arus yang tinggi tersebut, atau Anda akan menghadapi masalah.
Jarak antara lampu dan wafer juga penting. Jika lampu terlalu dekat, akan timbul titik-titik panas pada wafer. Jika terlalu jauh, efisiensi proses akan menurun. Kami juga menambahkan lapisan pelindung agar panas tetap berada di tempatnya, dan tidak merembet ke bagian lain dari mesin.