Di area litografi, Anda tahu bagaimana prosesnya berlangsung. Profil pemanasan yang tidak tepat, meskipun hanya setengah derajat saja, dapat menyebabkan perubahan dimensi kritis hingga beberapa nanometer. Hal ini akan langsung terlihat dari adanya ketidakseragaman pada permukaan wafer. Kita pun harus menghadapi masalah berupa wafer yang tidak bisa digunakan lagi. Kami menggunakan lampu inframerah untuk mengeringkan lapisan fotoresist, sehingga perilaku termalnya tetap stabil, dari shift ke shift, bahkan selama periode pemeliharaan sekalipun.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan pengeluarkan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dengan lapisan kuarsa yang responsif cepat. Panas tersebut langsung masuk ke lapisan fotoresist tanpa memanaskan bahan pembawa muatan, sehingga diperoleh keseragaman suhu pada tingkat wafer sebesar ±0,1°C. Kurva pemanasan yang digunakan juga memastikan bahwa prosesnya tetap berjalan sesuai rencana. Sistem ini juga bebas dari partikel debu, sehingga cocok digunakan di ruang kerja kelas 1–100. Selain itu, sistem ini juga kompatibel dengan antarmuka SEMI standar. Keluaran cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan intensitas kurang dari 5%.
Proses pengolahan fotoresist sangat bergantung pada pengelolaan suhu. Proses pemanasan harus dilakukan dengan cepat, lalu suhunya harus tetap stabil sebelum proses berakhir. Lampu yang kami gunakan mampu mengurangi waktu pemanasan dan mempercepat proses penyesuaian suhu, sehingga kita dapat meningkatkan kapasitas produksi tanpa perlu menggunakan energi yang lebih besar.
Profil termal yang sama akan terjadi setiap kali proses produksi berlangsung. Ketepatan profil termal inilah yang memungkinkan kontrol dimensi wafer yang akurat, sehingga tingkat keberhasilan produksi tetap terjaga. Di jalur produksi 7×24 jam, hal ini memastikan bahwa waktu henti produksi menjadi nol, sehingga perawatan dapat dilakukan sesuai jadwal, tanpa menimbulkan masalah yang serius.
Ada beberapa hal yang perlu diperhatikan. Pemasangan sistem ini cukup mudah, tetapi penyesuaian posisi lampu terhadap permukaan wafer serta jarak antara lampu dan substrat harus dilakukan dengan sangat teliti. Jika tidak, keseragaman suhu akan terganggu.
Permukaan lampu sangat panas, sehingga isolasi termal dan mekanisme pengaman sangat penting. Selain itu, spektrum cahaya yang dihasilkan oleh lampu harus disesuaikan dengan rentang penyerapan cahaya oleh fotoresist. Setiap jenis fotoresist membutuhkan profil inframerah yang berbeda, sehingga sistem ini dirancang sesuai dengan kebutuhan tersebut.