Op het oppervlak van de wafer is een verschil van maar een halve graad tijdens het zachte of harde bakproces voldoende om de kritieke dimensies te veranderen, om restanten achter te laten na het eten, en om de productiekwaliteit te verminderen. We hebben een infraroodlampontwerp ontwikkeld voor de apparaten die worden gebruikt bij het bewerken van wafers, zodat het thermische gedrag constant blijft – cyclus na cyclus.
Wat belangrijk is, is dat de lampontvangster wordt gecombineerd met NIR-kwartslampen. Hierdoor wordt de warmte rechtstreeks naar de wafer geleid, op de manier zoals vereist: snel en efficiënt. In de bakzone blijft de uniformiteit binnen ±0,1°C, zodat de fotoreduceringslaag een constante temperatuur heeft, zonder hotspots.
Deze oplossing voldoet aan de eisen van klasse 1–100 voor schone ruimtes: er komen geen deeltjes vrij in de hete zone, de verbindingen zijn afgesloten en het keramische materiaal zal niet loskomen. De elektrische interface is ontworpen voor hoge stromen en lage contactweerstand, zodat de lampkracht stabiel blijft, zelfs wanneer de lamp 24/7 draait.
De prestaties van de lamp blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een daling van minder dan 5%. Dit betekent dat het thermische budget in de lithografieprocesen – en ook in de daaropvolgende etappes – niet verandert.
Bij lithografie houdt de lampontvangster het juiste temperatuurprofiel bij: oplosmiddelen verdwijnen zonder dat de fotoreduceringslaag beschadigd raakt. Tijdens het harde bakproces zorgt de lamp voor de juiste hoeveelheid warmte, zodat de fotoreduceringslaag goed hecht en bestand is tegen het eten. Dit zorgt voor minder oneffenheden op het oppervlak van de wafer.
De herhalbaarheid van het proces zorgt voor minder herwerkingswerkzaamheden, minder afval en een betrouwbare cyclusduur. Ook het energieverbruik neemt af: de lamp wordt alleen verwarmd wanneer dat nodig is, waardoor er minimale verliezen zijn.
Er zijn nog een paar praktische punten om rekening mee te houden. De lampontvangster heeft een specifieke lamp nodig, evenals een passende bevestigingsstructuur. Controleer dus vooraf de spanning, stroom en mechanische afstanden.
Bij zeer dunne lagen fotoreduceringsmiddel kan een klein verschil in temperatuur al invloed hebben op het proces. In ruimtes met hoge luchtvochtigheid moet er regelmatig gecontroleerd worden om de integriteit van de verbindingen en de thermische contacten te behouden.