Pare de aquecer as paredes do forno (e comece a aquecer os wafers diretamente).
Se você já usou um forno convencional para trabalhar com semicondutores, sabe como é: o ar é aquecido, o que faz com que toda a estrutura interna do forno funcione como um radiador gigantesco. Isso é um desperdício de energia, e, honestamente, representa um perigo para quem está por perto.
Descobrimos que existe uma maneira melhor. Em vez de aquecer tudo ao redor, podemos direcionar o calor exatamente para onde ele é necessário, usando radiação infravermelha direcional.
Como funciona na prática
Pense nisso menos como um forno e mais como uma lanterna. As bobinas convencionais apenas aquecem o ambiente. As lâmpadas de radiação infravermelha são diferentes: elas emitem radiação eletromagnética em linha reta. Essa energia não se importa com o ar – ela simply segue seu caminho até atingir o substrato desejado.
O melhor de tudo? As paredes do equipamento permanecem frias. Você não precisa mais lidar com esse problema irritante de superaquecimento das paredes. A energia é direcionada diretamente para o componente a ser aquecido.
Os equipamentos necessários
Dependendo da profundidade em que o calor precisa penetrar, geralmente usamos lâmpadas de quartzo de onda curta ou média. Elas ocupam pouco espaço, o que é uma vantagem em salas limpas onde há pouca área disponível.
Mas o verdadeiro trunfo é a velocidade. Não há atraso térmico algum. Basta ligar o dispositivo, e o objetivo atinge a temperatura desejada em segundos. Não há necessidade de esperar que o ar se aqueça.
Também mantemos as condições ideais para salas limpas, utilizando materiais que não liberam gases. Além disso, as lâmpadas são colocadas em refletores que direcionam o feixe de luz, evitando que o calor se espalhe pela estrutura do equipamento.
As desvantagens (Porque nada é perfeito)
A desvantagem é que se trata de uma ferramenta de precisão, e não de um aparelho que pode ser usado sem cuidados. Como o calor se move em linha reta, podem surgir pontos frios se o componente tiver uma forma irregular. É preciso planejar cuidadosamente as zonas de aquecimento durante a fase de design.
Além disso, é necessário ter precisão absoluta. Se a lâmpada estiver fora de lugar, mesmo que seja por alguns milímetros, o wafer não será aquecido uniformemente. Os suportes utilizados devem ser extremamente resistentes. Qualquer vibração ou deslocamento pode atrapalhar o processo de aquecimento.