半導体スパッタリングヒーター

ファブフロアにおいて、スパッタリングチャンバーの熱プロファイルは一度設定して終わりというものではありません。これはリアルタイムで膜厚分布、応力、歩留まりに影響を与えます。0.5℃の変動が堆積速度を変化させ、デバイスの仕様外れを引き起こすことがあります。 この現実を踏まえて、当社の半導体スパッタリン...